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AMC空氣分子污染物VOC監測系統

產品詳情：連續監測@ sub ppb級醋酸、草酸、胺類、N-甲基毗咯烷酮(NMP)、六甲基二硅胺烷(HMDS)、鄰苯二甲酸二辛酷(DOP)、鄰苯二甲酸二丁酷(DBP)、鄰苯二甲酸二乙酷(DEP)、異丙醇、丙酮、硼酸三甲醋、二甲苯、磷酸三乙酷---等其他有機物空···...

詳情介紹

產品詳情：

連續監測@ sub ppb級

醋酸、草酸、胺類、N-甲基毗咯烷酮(NMP)、六甲基二硅胺烷(HMDS)、鄰苯二甲酸二辛酷(DOP)、鄰苯二甲酸二丁酷(DBP)、鄰苯二甲酸二乙酷(DEP)、異丙醇、丙酮、硼酸三甲醋、二甲苯、磷酸三乙酷---等其他有機物

空氣分子污染物(AMC)對于高科技生產過程是關鍵性因素，特別是微電子行業，有機污染物是生產過程中的消極因素，會導致高科技公司因產品質量問題而產生的成本增加。

無空氣分子污染物生產是理想的生產目標，通過污染物源頭控制、傳播控制，實時監控污染物濃度并結合多級過濾器以及新風系統來實現,持久監測AMC濃度,有助于掌握污染物源頭穩定生產、預防過濾器突發性壽命減少等。

阿瑞斯-uVOC提供給客戶一個實時快捷持續的在線空氣分子污染物AMC監測方案，不需要采樣，離線測量。

檢測限達到sub-ppb級

潔凈室環境中的空氣分子污染物 AMC，內部來自建筑材料釋出、設備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過程中化學藥品逸散、人員產生、管路泄露、設備維護修理時散發等，外部來自環境空氣中存在的氣相污染物,以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。

一旦AMC空氣分子污染物超標會引起一系列嚴重后果，比如晶圓廢棄、停產、重新凈化潔凈室等。

空氣分子污染物問題:從潔凈間到生產機臺加工

隨著IC產品生產成本的增加，空氣分子污染物AMC的監測變得越來越重要。

污染物從加工到超凈間的擴散,并且成份的增加，分子污染物來自多個源頭,比如生產化學藥劑.

建筑材料、潔凈間設備裝置、操作人員等。

阿瑞斯-uVOC 系統意味著潛在鑒別空氣分子污染物與產生污染問題和減少污染問題之間的關聯，完整的全量程全組份實時sub-ppb 級測量，提供早期AMC監測和快速確定這些污染問題的原因。

特點優勢：

在線連續質量監測全部自動化系統
低濃度 VOC監測
獨立分開測量有機物成份

Sub-ppb 檢測限

集成計算機和控制軟

件以及數據采集與處理功能
通過成份形成跟蹤污染物源頭：

許多生產過程化學藥劑成為污染物的源頭，NH;因光刻工藝過程而最為著名。六甲基二硅胺烷 (HMDS) 又分解成三甲基硅醇和 NH3,等等很多類似的化學藥劑的分解與釋放,都造成 AMC 的增加。而實時迅速測量這些成份濃度的阿瑞斯-uVOC系統可以跟蹤污染物形成的時間和路線。

AMC空氣分子污染物VOC監測系統

污染物交叉干擾是另一個潔凈室控制的難題，事實上，由于潔凈室內部氣體循環，一個工藝段上的必須用的藥劑或溶劑有可能成為另一個不同工藝段的危害物或污染物。多虧阿瑞斯-uvoc 系統強大的多組份低濃度測量能力，為潔凈室交叉干擾難題提供了絕好的解決方案。

實時監測過濾器狀態：在新風空調箱(MUA)、高效過濾器 (FFU)生產機臺上方 SWIF 下方安裝化學過濾器，實際生產過程中過濾器的維護和更換，如果太早或者太遲都會引起產品成本的增加和效率的降低，甚至大的生產事故，停產。

帶有16通道的阿瑞斯-uVOC系統可以監測過濾器的上下游空氣分子污染物AMC濃度，當進來的氣體不符合過濾標準時采樣點位于進風系統上游;當吸收能力耗盡時采樣點位于下游

AMC空氣分子污染物VOC監測系統

過程生產工具：

阿瑞斯-uVOC系統專為連續監測、無人值守操作設計，是專業的過程分析工具，16 通道采樣點可以通過設置自動進樣進行分析，每個通道都有報警設置功能，移動式使用功能使阿瑞斯uVOC系統成為診斷空氣分子污染物AMC的理想工具。

板載標定功能匹配嚴格的質量控制規則。

實時顯示測量結果，無計算運行。

標配，給提供客戶遠程聯網技術支持服務。

技術參數：

GC氣相色譜是分離多種復雜混合物常用的技術，這種技術依賴于揮發性有機混合氣體在色

譜柱的多組份分離。當不同的揮發性有機物從色譜柱分離出來后通過氫氣/空氣火焰離子檢測器探測電導率的變化，從而確定不同組份的濃度，獨特的吹掃和載氣系統可使儀器達到sub-ppb 檢測限